杭州朗为科技有限公司成立于2015年,总部坐落在美丽的杭州,是一家专注从事磁控溅射阴极和离子源产品的研发、生产、销售的国家高新技术企业。
公司主要产品有:平面圆形磁控溅射阴极、平面条形磁控溅射阴极、圆柱旋转磁控溅射阴极、阳极层离子源、考夫曼离子源、ICP等离子体源等。产品主要应用于大面积玻璃镀膜领域:low-e玻璃、阳光控制玻璃、汽车玻璃、太阳能电池;半导体、电子镀膜领域:MEMS、电子元器件、LED、LCD等;磁盘、硬盘镀膜领域:铁磁性膜、装饰镀膜领域:表壳、手机壳、笔记本外壳,和饰品等;精密光学领域:手机摄像头、光通讯模块、激光器等。此外,在工具、模具、刀具镀膜等领域也有着广泛的应用。
公司拥有一支稳定、年轻、经验丰富的人才队伍,通过良好的激励机制开展技术创新,通过多年的行业积累以及潜心产品开发,在已经占领国内技术高点的基础上再次创新,向国际一流水平发起冲锋,并逐步得到国内外知名客户的认可。
除了自身努力钻研,提高产品性能,为了保证产品的前瞻性,公司同时取得国际一流品牌相似产品的代理权,如美国ANGSTROM公司的全系列磁控溅射阴极产品,美国KRI公司的全系列离子源产品。通过代理过程中的沟通,了解到该产品在国际上的新发展趋势,从而为公司的产品研发提供方向。
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